膜厚仪

膜厚仪是薄膜厚度测量仪的简称，是一种用来在线并定量的测量透光或者半透光的各种薄膜厚度的仪器仪表，通常采用光干涉原理测量薄膜厚度。

作用

膜厚仪可应用于在线膜厚测量,测氧化物,SiNx,感光保护膜和半导体膜.也可以用来测量镀在钢,铝,铜,陶瓷和塑料等上的粗糙膜层.薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度.光干涉法是一种无损,精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

特点

1,可以测量多层膜中每一层的厚度

2,三维的厚度型貌

3,远程控制和在线测量

4,可做150mmor300mm的大范围的扫描测试

5,丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中.用户也可以在材料库中输入没有的材料.

6,软件操作简单,测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s.

7,软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计.

8,软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示.软件其他的升级功能还包括在线分析软件,远程控制模块等

技术参数

厚度测量:10纳米-250微米;可以选择250nm-1100nm间任一波长,也可在该范围内选择多波长分析;

波长:250-1100nm

厚度范围:10nm--250m

分辨率:0,1nm

重复性:0,3nm

准确率:<1[%](100nm--100m)

测试时间:100ms--<1s

分析层数:1--4

离光纤距离:1-5mm

离镜头距离:5mm--100mm

入射角度:90°

光斑点大小:400m

微光斑手段:与显微镜联用,1--20mwithMicroscope10x/20x/50xMagnificationandMFA-Adapter;

光纤长度:2m(otherlengthesonrequest)

接口:USB1.1(RS-232)

电源需求:12VDC@1,2A,220VAC50/60Hz

尺寸:180mmx152mmx263mm

总量:3.5kg

使用场合

膜厚仪主要应用于晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2,Si3N4,Photo-resist,ITO,...);晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag,Al,Au,Ti,...);DLC(DiamondLikeCarbon)硬涂层;SOI硅片;MEMs厚层薄膜(100mupto250m);DVD/CD涂层;光学镜头涂层;SOI硅片;金属箔;晶片与Mask间气层;减薄的晶片(<120m);瓶子或注射器等带弧度的涂层;薄膜工业的在线过程控制等等许多场合。